锂离子、固态电芯关注极片Overhang、隔膜完整、活性颗粒裂纹、析锂和界面接触。蔡司Xradia Versa可用RaaD对软包/圆柱完整电芯无损成像,量化极片外伸、卷绕错位、金属异物、气孔分布 ;高分辨模式看电极孔隙网络、颗粒破碎、SEI增厚,配合原位/4D可观察循环膨胀与孔隙演变。研发用于配方对比、界面改进和热稳定性复盘,量产抽检用于建立内部缺陷基线。对固态电池界面空隙、锂金属负极变形等难检问题,XRM可提供不破坏电芯的三维证据,降低*依赖拆解和电化学曲线的归因不确定性。操作人员需经过专业培训,熟练掌握工业 CT 操作 。苏州工业CT供应商
微显示配套硅转接板、玻璃基板、波导片、微透镜阵列,内部埋孔气泡、透镜偏心、胶层缺胶都会导致光学一致性差。蔡司Xradia可对基板埋孔、波导包层气泡、透镜支撑空隙、胶接界面脱离做三维量测 ;阵列光学件全阵列表面对比,识别个别透镜气泡、偏心、支撑断裂。CAD比对输出面型偏差、装配间隙、壁厚分布,研发端把CT真形貌代入光线追迹和散热模型,量产端小比例抽检建立“内部无缺陷”验收基线。对AR波导还可辅助看耦合区多层胶接,减少光学性能波动时的盲目返修。
苏州光伏行业工业CT应用行业准确的缺陷定位,为工业 CT 指导维修提供关键信息 。
高算力和车载功率模块对散热要求高,液冷板流道变形、钎着率低、均热板蒸气腔支撑异常都会拖垮换热。蔡司工业CT可补充光学三坐标看不到的内部信息:钎焊流道气孔、未熔合、歧管空腔、微通道堵塞,均热板吸液芯孔隙、支撑结构变形、封焊缺陷 。尺寸端输出平面度、流道截面、壁厚、形位公差;质量端输出气孔率与分层面积。研发用CT真形貌校核流阻/热仿真,量产用抽检确认冲压、钎焊、真空封接稳定,降低因内部流道不可见造成的散热降级与售后压力。
在电子半导体方向,汇芯可围绕先进封装、TSV硅通孔、芯片互连、BGA/焊点/凸点、PCB/PCBA和功率器件提供三维检测建议。VersaXRM 5 Insight可对封装内部互连做非破坏性可视化,例如C4凸点、微凸点、键合层和通孔填充状态,配合0.8μm/voxel级物镜数据观察互连截面;平板模式则适合整板或整包初步筛查。实际价值体现在三方面:一是无需破坏性切片即可发现空洞、偏移、断裂和填充不足;二是把3D数据与原图、X光总览和电测结果对照,缩小失效范围;三是为工艺窗口优化提供重复可比对样本。相关方案可按客户样品尺寸、材料和良率目标分阶段配置,避免一次性高成本全检。工业 CT 用于检测建筑材料内部是否有空洞等问题 。
蔡司于 2026 年 7 月 全球始发 VersaXRM 5 Insight X 射线显微镜,是 Versa 系列中定位"大视野 + 大样品高分辨 + 双快速扫描"的混合架构新机型。**定位为同类中***的混合X 射线显微镜——在同一工作流中无缝融合"平板探测器的大视野成像"与"光学物镜的局部高分辨成像"。
关键参数空间分辨率:高达 500 nm,在大工作距离下仍保持高分辨成像能力比较大成像视野:≥ 95 mm 直径,可满足大尺寸样品整体三维成像探测器架构:平板探测器与物镜探测器可切换设计,工作距离可调,适配大尺寸、复杂样品及原位实验装置双快速扫描模式得益于新一代 CMOS 平板探测器与物镜配备的 CMOS 相机,设备同时支持两类快速扫描:平板探测器快速扫描:适用于大视野、高效率数据采集4× 物镜高分辨率快速扫描:兼顾高分辨细节与采集效率智能软件平台ZEN NavX 3.0 操控软件:基于工作流设计,支持样品自动精确定位、多点位批量成像、多尺度成像ART 6.0 AI 重构工具箱:一键式远程智能重构:应用覆盖***适用于材料研究、地球科学、电子半导体、生命科学四大方向,包括金属合金、增材制造、致密砂岩/油气储层、先进封装与 TSV 失效分析、PCB/PCBA、生物组织与植物结构等的三维无损表征与原位 4D 实验。 工业 CT 以 X 射线为 “探针”,深入探索物体内部微观世界 。苏州纳米焦点工业CT断层成像
对工业 CT 检测数据进行统计分析,挖掘潜在价值 。苏州工业CT供应商
工业CT的数据处理能力十分强大。它所采集的海量X射线投影数据,需要高效的算法和强大的计算设备进行处理。先进的工业CT配备了专业的图形处理单元(GPU)集群或高性能计算服务器,能够快速对数据进行重建和分析。通过优化的图像重建算法,如滤波反投影算法、迭代重建算法等,能够在短时间内将投影数据转化为高质量的三维图像。在数据后处理方面,软件具备强大的分析功能,可对三维图像进行测量、分割、统计等操作。例如,精确测量物体内部孔洞的体积、直径,分析不同材料区域的分布情况等,为产品质量评估和性能分析提供多方面的数据支持。 苏州工业CT供应商
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